江苏平板状研磨粉 苏州平板状研磨粉 昆山平板状研磨粉

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2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点

1平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的区别是：片状，硬度高，粒度均匀。

2特点为：

a、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；

b、由于形状为平板状，故对于被磨对象如半导体硅片等来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；

c、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；

d、与国外同类产品相比，达到或超过国外同类产品，品质已达到---，但产品价格只有国外同类产品的50%；

e、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，稳定，生产成本只有原来的50%-60%。

3、片状氧化铝是以工业氧化铝为原料，添加复合矿化剂，经过高温煅烧而成。晶体形貌为具有一定厚度的片状备用于以下方面的研磨抛光磨料，平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:

1电子行业: 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。

2玻璃行业: 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。

3涂附行业: 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。

4金属和陶瓷加工业。
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