苏州深铂维温控设备有限公司为您提供rtdwafer热电阻晶圆测试仪。thermoway rtd wafer 需要精度溫度測量的程所 設計，例如半导体光阻处理系統、晶圓探測器和多其他型的半制造設备。 透过研队心整合設計来高量測精度和結果稳定性， wafer 上的 rtd 感器，黏合及封装材料，四式电阻測量方式是关鍵的集成元件。
features 工作溫度范圍：-80°c to 300°c 溫度点位：1to 160 points 提供校正服务 提供应用軟体及分析系統
applications 測量和制程周期的晶圓溫度：装載、升溫、稳定态、冷卻和卸載。 提升对溫度的控制及 致性。 管理具有严格热性能規格的生产流程或为 spc 系統提供据。 在硬体或制程研发期化晶圓工艺。 在終鉴定、晶圓以及修或升級系統的重新定程中对晶圓厂設进行和基准
specifications
temperature range:-80°c to 300°c
wafer size:6”8”，12”
element type: thin film platinum
element resistance:100ω, 1000 ω nominal at 0°c
resistance alpha value:0.00385
max. measurement current:200 a
accuracy with calibration correction:0.1°c absolute accuracy,±0.03°c sensor to sensor accuracy also available in customized high accuracy ±0.05
resolution:0.01°
type of connection:3-wire/4-wire resistance measurement with common current source return
lead materials: polyimide coated copper
cable construction: polyimide film flat cable section transitioning to a silicon rubber round flex cable.
connection: d-type, high density, sub-miniature with 68 pins.
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