-射频离子源RFICP 220辅助磁控溅射镀制3D 玻璃膜

伯东企业上海有限公司为您提供-射频离子源rficp 220辅助磁控溅射镀制3d 玻璃膜。某国内 3d玻璃制造商采用伯东 kri ---射频离子源 rficp 220 辅助磁控溅射镀制 3d 玻璃膜, 以获取- 3d玻璃膜.
其磁控溅射镀膜工艺流程如下图:
磁控溅射镀膜原理：
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞, 电离出大量的氩离子和电子, 电子飞向基片. 氩离子在电场的作用下加速轰击靶材, 溅射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子或分子沉积在基片上成膜.
伯东 kri ---射频离子源 rficp 220 技术参数:
portant;"> 离子源型号
portant;"> rficp 220
portant;"> discharge
portant;"> rficp 射频
portant;"> 离子束流
portant;"> >800 ma
portant;"> 离子动能
portant;"> 100-1200 v
portant;"> 栅极直径
portant;"> 20 cm φ
portant;"> 离子束
portant;"> ---
portant;"> 流量
portant;"> 10-40 sccm
portant;"> 通气
portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
portant;"> 典型压力
portant;"> < 0.5m torr
portant;"> 长度
portant;"> 30 cm
portant;"> 直径
portant;"> 41 cm
portant;"> 中和器
portant;"> lfn 2000
运行结果:
使用伯东kri ---射频离子源 rficp 220 辅助磁控溅射镀制 3d 玻璃膜, -镀膜的, 所生产出的陶瓷手机盖板镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目---般业界蒸镀机所搭配的离子源, 提高生产率.
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