伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用

伯东企业上海有限公司为您提供伯东 kri霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用。在进行镀膜等工艺之前, 对原样品的表面平整度/洁净程度等参数会有不同的要求. 对于不达标的样品需要进行前处理, kri霍尔离子源可以---的解决这类的问题.
kri霍尔离子源可以在低功耗的情况下进行大电流的工作, ---的处理样品的清洁度/和平整度; 可以根据不同的工艺要求来控制样品表面的光滑/粗糙程度; 一致且---地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 达到清洗前处理的作用.
稳定工艺并提高产品产量. kri离子源清洗在在真空室中进行, 基板表面清洁后可以立即沉积, 短停留时间暴露于真空背景清洁并活化基材表面比辉光放电更清洁, 生产率更高; 无需基板偏置/无需高压, 消除了大多数腔室壁的溅射, 没有额外的抽空, ---地提高了整体工艺的效率与.
---沈阳科学仪器股份有限公司客户选用kri eh1000型霍尔离子源组装磁控溅射设备对聚氨酯类的材料进行清洗前处理.
离子源清洗样品的示意图：
kri 霍尔离子源 eh 1000 特性:
即插即用备用阳极
高离子辅助镀膜 iad 效率
无需水冷
sidewinder
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