射频离子源RFICP 220用于透明导电薄膜及性能研究试验

伯东企业上海有限公司为您提供射频离子源rficp 220用于透明导电薄膜及性能研究试验。某实验室运用直流磁控溅射法, 采用 zao 陶瓷靶材, 结合正交试验表通过改变制备工艺中的基片温度、溅射功率、氧流量百分比等参数, 在普通玻璃衬底上制备得到zno: alzao透明导电薄膜.
试验设备:
伯东 kri ---射频离子源 rficp 220 进行溅射, 选用 zao 陶瓷靶, 基片为普通玻璃, 普发 pfeiffer 旋片泵 duo 3.
工艺要求:
靶与基片距离为5cm, 溅射时间为30 min
伯东 kri ---型射频离子源 rficp 220 技术参数:
portant;"> 离子源型号
portant;"> rficp 220
portant;"> discharge
portant;"> rficp 射频
portant;"> 离子束流
portant;"> >800 ma
portant;"> 离子动能
portant;"> 100-1200 v
portant;"> 栅极直径
portant;"> 20 cm φ
portant;"> 离子束
portant;"> ---
portant;"> 流量
portant;"> 10-40 sccm
portant;"> 通气
portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
portant;"> 典型压力
portant;"> < 0.5m torr
portant;"> 长度
portant;"> 30 cm
portant;"> 直径
portant;"> 41 cm
portant;"> 中和器
portant;"> lfn 2000
理由:
---型射频离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染
在整个实验工艺中工作气压保持在 3x 10-1pa, 因此采用伯东 pfeiffer 旋片泵 duo 3.
伯东 pfeiffer 旋片泵 duo 3 技术参数如下:
伯东是德国 pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, kri 考夫曼离子源, 美国hva 真空阀门, 美国 intest 高低温冲击测试机, 美国 ambrell 感应加热设备和日本 ns 离子蚀刻机等进口知---的---.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
t: +86-21-5046-1322 t: +886-3-567-9508 ext 161
f: +86-21-5046-1490 f: +886-3-567-0049
m: +86 152-0195-1076 m: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw

伯东---, 翻拷必究!
     联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！
     联系电话：021-50463511，13918837267，欢迎您的来电咨询！
     本页网址：https://www.ynshangji.com/g41578764/
     推荐关键词： 涡轮分子泵, 旋片真空泵, 氦质谱检漏仪, 氦质谱分析仪, 真空计