金百辰智能科技浙江有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd镀膜与您分享pvd真空离子镀膜与传统电镀之间的不同
真空镀膜厚度属于微米级，1μm 相当于传统电镀一条的十分之一，因此经过镀膜作业以后，并不会影响工件的精度；传统电镀的批覆方式是以一种包覆的方式在外形成一层电镀层，pvd镀膜，并无高度密著性可言。
pvd 真空离子镀膜与电镀方式之膜形差异一般湿式镀层所作之镀膜会在表面覆盖成一个薄膜层 ，不论底材之原先形状为何，表面所呈现出来的薄膜层都会趋于平坦。pvd 镀层会依底材形状平均在上方形成一个镀膜层，依底材高低形状有所不同，经镀膜后的高低形状也是依照原先底材之态样。
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pvd镀膜与您分享高频感应加热蒸发
高频感应加热蒸发是将装有镀膜材料的坩埚放置在高频螺旋线圈的中央，使镀膜材料在高频电磁场的感应下产生---的涡流电流和磁滞效应，致使膜层升温，直至气化蒸发。蒸发源一般有水冷高频线圈和石墨或者陶瓷(氧---、氧化铝、氧化硼等)坩埚组成。高频电源采用的频率为1万至几十万赫兹，输入功率为几至几百千瓦，膜材体积越小，感应频率越高。感应线圈频率通常用水冷铜管制造。高频感应加热蒸发方法的缺点是不易对输入功率进行微调，它有下述优点:
1、蒸发速率大:
2、蒸发源温度均匀稳定，不易产生镀料液滴飞溅的现象，也可以避免沉积在薄膜上产生现象:
3、蒸发源一次装料，温度控制比较容易，操作简单。
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pvd镀膜与您分享pvd镀膜工艺离子镀(ion plating)
pvd镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与反应性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行---真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(ar+)，及带负电的电子(e-)，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，pvd镀膜技术，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，pvd镀膜厂家，多用于切削刀具镀膜涂层处理。
大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，---是要求耐磨耗的物件。
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