在当今科技飞速发展的时代,高纯-气在众多关键领域发挥着不可或缺的作用。
在半导体制造过程中,高纯-气被广泛应用于芯片的光刻、蚀刻以及薄膜沉积等工艺环节。
高纯-气作为一种惰性保护气体,能够有效防止芯片在制造过程中受到杂质的污染,-芯片的微观结构和电学性能的高度一致性与稳定性。例如,在极紫外光刻euv技术中,超纯-气的能供应对于实现-的芯片图案转移-,其微小的杂质含量波动都可能导致芯片出现缺陷,影响整个集成电路的性能与成品率。
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变压吸附法生产高纯-气的原理是什么?
变压吸附法生产高纯-气主要基于吸附剂对不同气体的吸附选择性和压力变化的影响。
吸附剂表面存在许多活性位点,在一定压力下,对杂质气体如氮气、氧气、-等有较强的吸附能力,而对-气吸附较弱。当混合气体通过装有吸附剂的吸附塔时,杂质气体被吸附在吸附剂表面,-气则顺利通过。
随后通过降低压力,被吸附的杂质气体从吸附剂表面解吸,使吸附剂得以再生。通过多个吸附塔循环进行吸附 - 解吸过程,不断去除杂质,然后得到高纯-气。
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