由于微弧氧化是在阳极氧化膜被电ji穿的基础上进行的，微弧氧化技术设备，所以在探讨微弧氧化机理时我们要结合电ji穿理论的研究和发展，从而阐述微弧氧化基本原理。微弧氧化技术就是在电ji穿理论的基础上加以研究和应用的新型表面力一技术。自1932年betz等观察到电ji穿的现象以来，许多研究者都对电ji穿产生的原因 过各种各样的假设和模型。总体上看，手机壳微弧氧化技术，电ji穿理论经历了离子电流机理、热作用机理、机械作用机理以及电子雪崩机理等不同的发展阶段。了解电ji穿原理，对于研究微弧氧化机理，开发新的表面处理技术均有着重要的理论意义。
微弧氧化又称微等粒子氧化或阳极火花沉积，是一种在al、mg、ti等有色金属表面原位生长陶瓷膜的表面处理新技术，htc微弧氧化技术，技术上具有-性。该技术能够-地---铝、镁、钛合金的耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能。在铝、镁合金等轻金属表面制备具有高色彩、多用途的陶瓷釉膜层。所得复合膜层的性能明显优于单一微弧氧化或传统涂装膜层，其优异的表面防护效果满足了铝镁合金零件于各种环境条件下的表面性能要求。同时色彩更鲜艳，微弧氧化技术，满足商业消费者的外在需求。
微弧氧化
微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能完全描述陶瓷层的形成。
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