薄膜(比如铱和铂薄膜)之所以引起人们的兴趣是因为它们具有-的性能 、高的电导率 、很强的催化活性以及-的稳定性等 。这些性能使得薄膜在电极材料 、微电子 、固态燃料电池和气敏元件等许多领域存在广泛的应用。
在cvd处理过程中，尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金；冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢cr12mov、硬质合金等，其中快冷淬透钢，由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形，所以不宜进行cvd处理；而高速钢是热处理膨胀较大的钢种，使用时必须充分估计其膨胀变形量。
当考虑电子束蒸发技术时，该方法涉及纯粹的物理过程，其中目标充当包含待沉积材料的蒸发源，该材料用作阴极。请注意，系统会根据电子束功率蒸发任何材料。通过在高真空下轰击电子，在高蒸气压下加热材料，饰品真空镀膜设备，并释放出颗粒。然后，硅胶真空镀膜设备，在原子尺寸释放的粒子和气体分子之间发生冲突，该粒子插入反应器中，旨在通过产生等离子体来加速粒子。该等离子体穿过沉积室，在反应器的中间位置-。连续压缩层被沉积，从而增加了沉积膜对基底的粘附力
cvd 制备铱高温涂层人们之所以对作涂层材料感兴趣是由于这类金属优良的性能 。铱具有较强的能力和较高的熔点而受到重视， 是一种较理想的高温涂层材料 。
20 世纪 60 年代以来， 航空航天技术飞速发展，新北真空镀膜设备，一些高熔点材料(如石墨碳和钨钼钽铌等难熔金属)被大量使用，但这些材料的一个共同的致命缺点是能力差。
60 年代美国材料实验室(afml)对石墨碳的铱保护涂层进行过大量的研究，玻璃真空镀膜设备， 采用了多种成型方法制备铱涂层 ，其中包括化学气相沉积法 。虽然没有制备出令人满意的厚铱涂层， 但仍认为 cvd 是一种非常有希望且值得进一步研究的方法。
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