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真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能

真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能-的半导体电极al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能-的al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备al膜的特点。

严格控制发al膜的厚度是十分重要的，因为al膜的厚度将直接影响al膜的其它性能，从而影响半导体器件的-性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。

采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积al膜时的几率均等;行星机构的-点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

附着力反映了al膜与基片之间的相互作用力，也是-器件-的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射al膜与基片的附着力较高。

如何减少真空镀膜设备中的灰尘？

使用真空镀膜设备进行镀膜时，镀膜表面的一层灰尘会影响真空镀膜的整体效果，那么该如何减少灰尘呢？

1、使用的源材料要符合-的纯度要求；

2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题；

3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理；

4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求；

5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等；

6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物；

7、技术上明确允许的颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限大致是多少；

8、室内空气流动性低、地面干净，如果是水泥地，需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。

真空镀膜机保养的重要性

大家都知道，真空镀膜机的运行状况会直接影响镀膜成品的，为了-的运行，要对真空镀膜机进行维护和保养，那么，那么知道真空镀膜机维护和保养的意义吗？下面，小编给大家讲解一下它们的意义。

设备的日常维护保养是在生产中发现不正常现象，尽快解决。发现机械泵油减少要添加，不要认为油要定期才更换，否者到了维护时，泵的转子可能会磨损-。例如，一些轴承工件转架卡，要更换轴承，否者等到它完全破碎，问题可就大了，可能会出现电机烧毁等问题。

定期维护保养，有些人会问一个日常维护和定期维护的区别？实际上，每个设备都有使用寿命，例如，扩散泵用的硅油，使用寿命为两年左右，我们提早更换，这是浪费吗？不是，在生产中不希望出现设备故障，把日常维护保养和定期维护保养都做好了，不仅延长了设备的使用寿命，还减少了运行故障，提高生产效率。

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