NR9 3000PY光刻胶报价厂家实力-

发布者：北京赛米莱德贸易有限公司时间：2020-7-15

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4,---

前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行---，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，

光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；

对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。

---时间，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，

另外，为降低驻波效应影响，可在---后需进行烘焙，称为光后烘焙peb

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表征光刻胶特性和性能、的参数有以下三个： (1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。 (2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特性包括胶的固溶度、黏滞度、黏着度、抗蚀(刻蚀、腐蚀)性、热稳定性、流动性和对环境气氛(如氧气)的敏感度。 (3)其他特性。光刻胶的其他特性包括胶的纯度、胶内的金属含量、胶的可应用范围、胶的储存有效期和胶的燃点。通过在较高温度下进行烘培，可以使溶剂从光刻胶中挥发出来前烘后溶剂含量降至5％左右，从而降低了灰尘的沾污。

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nr9-3000py 负性光刻胶

负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线365 nm---，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

和接触式光刻等工具。

显影之后，nr9-3000py 展现出一种倒梯形侧壁，这可以方便地作单纯的lift-off 处理。

nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

lift-off工-

應用領域：leds，oleds，displays，mems，packaging，biochips。

濕法蝕刻，鍍干法蝕刻rie/ion milling/ion implantation

附着力好temperature resistance = 100°c 耐高溫temperature resistance = 180°c

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负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线365

nm---，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

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