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借助一种惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料如tin，tic的受热、蒸发、沉积过程。

蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时，一小部分发生电离，并在电场的作用下飞向工件，以几千电子伏的能量射到工件表面，可以打入基体约几纳米的-，从而大大提高了涂层的结合力，而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离子与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射，还可以清除工件表面的污染物，从而---结合力。

人们把等离子体、离子束引入到传统的物---相沉积技术的蒸发和溅射中，参与其镀膜过程，同时通入反应气体，也可以在固体表面进行化学反应，生成新的合成产物固体相薄膜，称其为反应镀。

在溅射钛(ti)等离子体中通入反应气体n2后合成tin就是一例。

这就是说物---相沉积也可以包含有化学反应。又如，在反应室内通入，借助于w靶阴极电弧放电，在ar，w等离子体作用下使分解，并在固体表面实现碳键重组，生成掺w的类金刚石碳减摩膜，人们习惯上把这种沉积过程仍归入化学气相沉积，但这是在典型的物---相沉积技术——金属阴极电弧离子镀中实现的。

金属钯及其合金具有很强的氢气吸附能力和特殊的选择渗透能力, 是理想的氢气储存和净化材料 。目前, 通常使用整体钯合金或镀钯等方法制造氢净化设备。近年来 ,有研究者尝试采用化学气相沉积法制备钯的薄膜或薄层材料 , 他们选用分解温度很低的金属有机化合物作为沉积钯的源物质, 他们是:---[β-酮] pd(ⅱ)、pd(η3 -c 3 h 5 )(η 5-c 5 h 5 )和 pd(η3-c 3 h 5 )(cf 3 cochcocf 3 )等。采用化学气相沉积法可以制备高纯度的钯薄膜 。

物---相沉积涂层设备，该设备包括耐高压真空炉腔、转炉架、真空系统、阴极电弧系统、控制系统、高温轴承等，同时采用开发的-的真空磁控阴极电弧技术，将具有硬度、-结合力、均匀一致的纳微米超硬薄膜运用于刀具、各类模具以及机械零部件表面，寿命提-到3-10倍以上。

研究制备的各类pvd涂层包括高硅涂层、高铝涂层氮铝化钛、cr-al涂层alcrn、ticn氮碳化钛涂层、tin氮化钛涂层、类金刚石dlc涂层等。涂层具有光滑、致密、硬度高、耐高温、抗磨损、防氧化等特点，能够进行批量和工业化生产应用。