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微弧氧化技术 参数全国发货 日照微弧养护技术

发布者:日照微弧技术有限公司  时间:2021-10-3 






1温度对微弧氧化的影响

微弧氧化与阳极氧化不同,所需温度范围较宽。一般为10-90度。温度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且温度高,会形成水气。一般建议在20-60度。由于微弧氧化以热能形式释放,所以液体温度上升较快,微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。

2.时间对微弧氧化的影响

微弧氧化时间一般控制在10~60min。氧化时间越长,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。

3.阴极材料

阴极材料可选用不锈钢,碳钢,镍等,可将上述材料悬挂使用或做成阴极槽体。

4.后处理对微弧氧化的影响

微弧氧化过后,工件可不经过任何处理直接使用,也可进行封闭,电泳,抛光等后续处理。折叠


微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,基体元素由于处在富氧环境中,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加。周而复始,膜层得以生长。

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微弧氧化材料表面陶瓷化机理

微弧氧化是一种在高电压、大电流下对金属材料进行表面处理的技术。由于采用了较高的电压(大于250 v),在微弧氧化处理过程中,可在样品材料表面观察到光斑(弧光)现象。光斑十分细小,密度很大,且无固定位置。这种细小的光斑意味着在样品材料表面形成了大量的等离子体微区,在微区内瞬间温度可达2500℃以上,压力可达数百个---压,为上面提到的一系列化学、物理反应的进行创造了条件。利用这一环境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化层,可用来---材料自身的防腐、耐磨和电绝缘等特性。



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