磁控溅射镀膜设备价格- 沈阳鹏程真空技术

小型自动磁控溅射仪

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1. 溅射室---真空度：≤6.6×10-6 pa

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s

3. 系统从---开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa；

4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5pa

5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°c连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为pid自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路； dn16充气阀、管路、接头等2路；

10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源680l/s ，德国普发hipace700分子泵；1台机械泵4l/s ，1台dn40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，cc150气动闸板阀1台用于复合分子泵与真空室隔离，节流阀1台，dn40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。管道采用不锈钢三通及波纹管，

11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。

磁控溅射镀膜机的工作原理是什么？

磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子或分子沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度---，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与原子发生碰撞电离出大量的离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，沉积在基片上。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用 e x b drift使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。并且沉降在基片表面，通过成膜过程散点－岛状结构-迷走结构-层状生长形成薄膜。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在e x b shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年磁控溅射产品行业经验，---磁控溅射产品研发定制与生产，---的磁控溅射产品生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！

自动磁控溅射系镀膜机介绍

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

自动磁控溅射系统选配项：

rf、dc溅射

热蒸镀能力

rf或dc偏压1000v

样品台可加热到700°c

膜厚监测仪

基片的rf射频等离子清洗

应用：

晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

光学以及ito涂覆

带高温样品台和脉冲dc电源的硬涂覆

带rf射频等离子放电的反应溅射