进口微弧氧化电源厂家「日照微弧技术」

微弧氧化技术特点

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜层为表面多孔孔径为几微米、内部致密的陶瓷层。 膜层硬度高维氏硬度可由几百至三千左右 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。微弧氧化技术、微弧氧化生产线

2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高，可承受高温使用，范围根据基材熔点温度 有---的绝缘性能，绝缘电阻膜阻>;100mω 绝缘耐压>;5000v/秒。微弧氧化电源、微弧氧化生产工艺

1、可处理任意大小工件

可处理任意大小工件---，--- 可进行细长管可处理任何长度工件 复杂异形件如深盲孔内部 特殊材料特殊性能膜层制备等高难度研究工作。

2、高结合力

基体原位生长陶瓷膜，膜层与基底金属结合力强,陶瓷膜致密均匀。

3、可处理的材料镁、铝、钛、---、钽、铌等及其合金材料包括含硅量较高的铝合金。

微弧氧化的特点

1、微弧氧化可以一次完成，也可以分几次完成。---对于氧化膜要求很厚的样品可以分几次氧化，而阳极氧化一旦中断就必须重新开始。

2、在阳极氧化不易成膜的某些铝合金如al-cu、al-si等合金表面，同样可获得性能---的厚膜，尤其在al-cu合金表面如ly12合金，可以形成高硬度的厚膜，hv可达到1600以上。总体上看，电ji穿理论经历了离子电流机理、热作用机理、机械作用机理以及电子雪崩机理等不同的发展阶段。微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化设备、微弧氧化电源