郑州PVD真空镀膜工艺参数- 金百辰欢迎来电

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pvd真空镀膜工艺参数与您分享

q3: 请问pvd镀膜的具体原理是什么？

a3: 离子镀膜pvd镀膜技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

q4: 请问pvd镀膜与传统的化学电镀水电镀相比有何优点？

a4: pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。

两者的不同点是：pvd镀膜膜层与工件表面的结合力，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性-，膜层的性能也更稳定；pvd镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；pvd镀膜不会产生有毒或有污染的物质。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享请问目前pvd镀膜技术主要应用在哪些行业？

pvd镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀和工具镀。装饰镀的目的主要是为了-工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命；这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命；这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等等产品中。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享请问pvd镀膜的成本是不是-？

 虽然使用pvd镀膜技术能够镀出的膜层，但是pvd镀膜过程的成本其实并不高，它是一种非常高的表面处理方式，所以近年来pvd镀膜技术发展得非常快。pvd镀膜已经成为五金行业表面处理的发展方向。

 请问pvd镀膜设备主要由哪几部分组成？

pvd镀膜设备主要由真空腔体、真空抽气机组、水冷系统、电源系统、控制系统等几大部分组成。

pvd真空镀膜工艺参数与您分享与之对应的化学气相沉积chemical vapor deition简称为cvd技术。行业内通常所说的“ip”ion plating离子镀膜，是因为在pvd技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作 用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片光盘上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由m.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽-真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间或决定于装料量，并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以-膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。