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含氢dlc涂层的生长机理　　　　

对于含氢的dlc涂层，与cvd金刚石涂层一样，一般认为碳与碳、碳与氢原子进行杂化，形成坚固的四面体结构，氢原子的存在促进形成sp3键，而刻蚀掉已经形成的sp2键；在无序的网络结构中，氢原子能够终止碳原子至外端的悬挂键，阻止碳原子形成sp2键。由于氢原子的存在可以帮助和促进sp3键的形成，因此人们认为氢的存在是dlc涂层中形成sp3键所必需的，而且还建立了sp3与氢含量的关系。　　　　

研究表明，随着环境中氢原子含量的增加，涂层中sp3键含量增加，而且还发现氢含量为50%附近时硬度至大。　　　　

含氢类金刚石涂层的生长模型分为三个阶段，即等离子体的反应气体的分子或原子分解、电离；等离子体与表面作用以及涂层浅表面的作用。

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多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能 地发挥它们各自的---性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，再利用多弧镀达到 终稳定的表面涂层颜色的新方法。

目前，一些发达(如德国 cemecon、英国 art-teer、 瑞士 platit)在传统的磁控溅射原理基础上，用非平衡磁场代替原先的平衡磁场、50khz 的中频电源代替原来的直流电源、脉冲电源取代以往的直流偏压，采用辅助阳极技术等，使磁控溅射技术逐步成熟，已大批量应用在工模涂层上，现在已稳定生产的涂层主要有 tialn、altin、tib2、dlc、crn，我国广东、江苏、贵州、株洲等地也已陆续引进此种技术，大有星火燎原之势。