NR7 6000PY光刻胶价格来电垂询 北京赛米莱德公司
nr77-5000py
pr1-2000a1 试验操作流程
pr1-2000a1的厚度范围可以做到 1500到3500nm,如下以膜厚2900nm为列;
1,静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度;
2,前烘:热板120度120秒;
3,冷却至室温;
4,用波长为365,406,436的波长---,
5,在温度为20-25度,使用rd6浸泡式、喷雾、显影 ;
6,去除光刻胶,可使用ch3coch3,rr5,rr41等。
pc6-16000
nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势:
- 优异的分辨率性能
- 快速地显影
- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度
- 耐受温度100℃
- 室温储存保质期长达3 年
nr9-1000py 0.7μm - 2.1μm
nr9-1500py 1.1μm - 3.1μm
nr9-3000py 2.1μm - 6.3μm
nr9-6000py 5.0μm -
12.2μm
resist thickness
nr71-1000py 0.7μm - 2.1μm
nr71-1500py 1.1μm - 3.1μm
nr71-3000py 2.1μm - 6.3μm
nr71-6000py 5.0μm - 12.2μm
光刻胶
光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成,又被称为光致抗蚀剂,这是一种对光非常敏感的化合物。此外,光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。euv光刻光路基于反射设计,不同于上一代的折射,其所需光刻胶主要以无机光刻胶为主,如金属氧化物光刻胶。在受到紫外光---后,它在显影液中的溶解度会发生变化。
分类
根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。
正胶
---前对显影液不可溶,而---后变成了可溶的,能得到与掩模板遮光区相同的图形。
优点:分辨率高、对比度好。
缺点:粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
灵敏度:---区域光刻胶完全溶解时所需的能量
负胶egative
photo resist
与正胶反之。
优点: ---的粘附能力和抗刻蚀能力、感-度快。
缺点: 显影时发生变形和膨胀,导致其分辨率。
灵敏度:保留---区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。
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