光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，nr29 25000p光刻胶，衍生出非常多的种类，按照应用领域，光刻胶可以划分为印刷电路板(pcb)用光刻胶、液晶显示(lcd)用光刻胶、半导体用光刻胶和其他用途光刻胶。其中，pcb 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低，而半导体光刻胶代表着光刻胶技术水平。
(1)半导体用光刻胶
在半导体用光刻胶领域，光刻技术经历了紫外全谱(300～450nm)、g 线(436nm)、i 线 (365nm)、深紫外(duv，包括 248nm 和 193nm)和极紫外(euv)六个阶段。相对应于各-波长的光刻胶也应运而生，nr29 25000p光刻胶报价，光刻胶中的关键配方成份，如成膜树脂、光引发剂、添加剂也随之发生变化，使光刻胶的综合性能-地满足工艺要求。
(2)lcd光刻胶
在lcd 面板制造领域，光刻胶也是极其关键的材料。根据使用对象的不同，nr29 25000p光刻胶，可分为 rgb 胶(彩色胶)、bm胶(黑色胶)、oc 胶、ps 胶、tft 胶等。
光刻工艺包含表面准备、涂覆光刻胶、前烘、对准-、显影、坚膜、显影检查、刻蚀、剥离、终检查等步骤，以实现图形的转移，制造特定的微结构。
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一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显-图形有涨缩，负性胶-在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以-负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶-，正胶-。
光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外-或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(ic)，封装(packaging)，微机电系统(mems)，光电子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板显示器(led，lcd，oled)，nr29 25000p光刻胶多少钱，太阳能光伏(solar pv)等领域。
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