即在真空状态注入ya气，ya气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
总体说来，手机配件用真空电镀膜技术具有以下几个优势：
1、表面增亮：手机刚购买时光度可达80，手机即使沾上灰尘，依然光彩照人。
2、防氧化：用真空镀膜机操作，pvd电镀哪里近，离子轰击覆盖配件表面，可防止商品-氧化。
3、时间长效：黄金甲具有的表面面积，具有-地附着能力，效果可以维持几年以上，pvd电镀，不会氧化，不容易脱落。
4、无任何污染：由于镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境没有危害，pvd电镀哪里好，。
真空镀膜和光学镀膜的概念和区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件金属、半导体或绝缘体表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
真空电镀--磁控溅射镀膜技术
一、磁控溅射镀膜－溅射原理：
1.使chamber达到真空条件，一般控制在(2~5)e-5torr
2.chamber内通入ar，并启动dc power
3.ar发生电离：ar ? ar+ ＋ e-
4.在电场作用下，电子会加速飞向阳极
5.在电场作用下，ar+会加速飞向阴极的target靶材，target粒子及二次电子被击出，前者到达substrate基片表面进行薄膜成长，后者被加速至阴极途中促成更多的电离。
6.垂直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨迹，提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率的作用。
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