1化学气相沉积cvd反应温度一般在900~1200℃，中温cvd例如mocvd金属有机化合物化学气相沉积，反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量，还可把反应温度降低。
“辅助”cvd的工艺较多，手机镀膜设备多少钱，主要有：
电子辅助cvdeacvd也称为电子束辅助cvd，电子增强cvd，或电子束-cvd，涂层的形成在电子作用下得到改进。
激光辅助cvdlacvd)，也称为激光cvd或光子辅助cvd，涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。
热丝cvd，也称为热cvd，工具镀膜设备，一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。
金属有机化合物cvdmocvd，是在一种有机金属化合物气氛这种气氛在室温时是稳定的，但在高温下分解中进行沉积。
离子镀，是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，眼镜镀膜设备，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起，不仅明显地提高了镀层的各种性能，而且，大大扩充了镀膜技术的应用范围。
离子镀除兼有真空溅射的优点外，还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。例如，利用离子镀技术可以在金属、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上，涂覆具有不同性能的单一镀层、合金镀层、化合物镀层及各种复合镀层，而且沉积速度快可达755m/min，镀前清洗工序简单，对环境无污染，镀膜设备，因此，近年来在-得到了迅速的发展。
镀膜设备pcvd技术具有沉积温度低，沉积速率快，绕镀性好，薄膜与基体结合强度好，设备---维护简单等优点，用pcvd法调节工艺参数方便灵活，轻易调整和控制薄膜厚度和成份组成结构，沉积出多层复合膜及多层梯度复合膜等膜，同时，pcvd法还拓展了新的低温沉积领域，例如，用pcvd法可将tin的反应温度由cvd法的1000℃降到200～500℃，用pcvd法制备纳米陶瓷薄膜的特点是：产品的杨氏模量、抗压强度和硬度都-，耐磨性好，化学性能稳定，性和腐蚀性好，有较高的高温强度。
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