磁控溅射技术镀膜是一种重要的物理的气相沉积镀膜技术，这种工艺可工业化批量生产。本文重点探讨了磁控溅射在光学镀膜中的应用，磁控溅射，包括膜层设计和镀膜工艺。
光学镀膜设计
1减反射膜
减反射也称增透膜，这种膜主要镀在透明低折射率基底上，如玻璃上镀减反射膜，常见的膜层结构采用高、低折射率膜层叠加而成
2彩色镀膜 彩色镀膜主要也是在玻璃等透明基底上镀膜，其膜层材料和结构类似减反射镀膜。这种玻璃在可见光下透射和反射的颜色不同。
3渐变反射膜 渐变反射膜是一种在不同角度观察，反射的颜色不同的膜层。这种膜层可以镀在玻璃，也可以镀在金属基底。
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说白了无心插柳就是说用荷能物体一般 用稀有气体的正离子去轰击固态下列称靶材表层，进而造成靶材表层上的分子或分子结构从在其中逸出的这种状况。这一状况是格洛夫grove于1842年在试验科学研究阴极浸蚀难题时，阴极原材料被转移到真空管内壁而发觉的。
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随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求也不断提高，单一材料性能已不能满足某些特定环境下工作机械的性能要求。---真空离子镀膜机经过几十年的发展，相对于国外高1端镀膜设备而言，在自动化程度与技术上取得了一定的进步，但在镀膜产品稳定性和准确性方面尚需提升，高1端设备仍依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。
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