公司产品包括石英掩膜版,光罩,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
使用无掩模光刻机读取版图文件,对带胶的空白掩膜版进行非接触式------波长405nm,照射掩膜版上所需图形区域,使该区域的光刻胶通常为正胶发生光化学反应
经过显影、定---,---区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层
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掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应,选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用cr,因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线,在于你常用的光刻胶,每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
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