双色真空镀膜机pvd技术的应用范围及优缺点
很多人对真空镀膜机pvd技术的了解不是---全，也不知道具体是应用到哪些行业，以及它在实际运用过程有哪些优缺点?至成真空小编现在详细和大家介绍一下:
真空镀膜机pvd技术其应用范围是：
1碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；
2金属材料的表面硬度至少需要在hv170以上。
真空镀膜机pvd技术其优点是:
与传统磁控溅射单色pvd技术相比，双色pvd工艺更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高，但外观效果，两种颜色的表面硬度都在hv600以上。传统磁控溅射单色pvd技术要在实现双色效果，采取的工艺措施是在整体pvd单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。新加工出来的区域就只能表现金属的---，表面硬度也就是金属本身的表面硬度---hv200左右而pvd后的表面硬度为hv600以上。
影响离子镀膜层的工艺参数
基片偏压.
离子镀膜基片施加负偏压后；各种离子和高能中性粒子流以较高的能量轰击基片表面．基片负偏压的提高，会使基片表面获得更高的能量，可能形成伪扩散层，提高膜层与基体的附着力，还可以改变膜层的组织、结构和性能，如细化晶粒，图2表明，随着基片负偏压的提高，膜层组织变细，但是，基片负偏压的提高也会产生一些不利的影响，如反溅射作用的增加，使膜层表面受到刻蚀，使表面光洁程度降低，图3表明了空心阴极离子镀铬时，基片负偏压对铬膜表面光泽度的影响，基片负偏压的提高还会使沉积速率降低，使基片温度升高，图4表明了电弧离子镀tin膜基片负偏压对沉积速率的影响，因此，应根据不同的离子镀方法、不同的膜层及使用要求选择适当的基片负偏压。
镀膜真空度和反应气体分压.
离子镀膜真空度对膜层组织、性能的影响与真空蒸镀时的影响规律相似，但反应气体分压对反应离子镀镀制化合物膜的成分、结构和性能有直接的影响，图5是hcd离子镀tin膜的硬度与氮气分压的关系，因此反应气体的分压应根据离子镀方法，化合物膜层的成分、性质、使用要求以及设备来选择
基片温度.
离子镀膜基片温度的高低直接影响着膜层的组织、结构和性能。一般情况下，温度的升高有利于提高膜层与基片的附着力，有利于---膜层的组织与性能。但是，温度过高，则会使沉积速率降低，有时还会使膜层晶粒粗大，性能变坏；图6中hcd离子镀铬膜显微硬度受基片温度影响的规律。另外，基片温度的选择还要受基片材料性质的---，如钢材的回火温度等
蒸发源功率．
蒸发源功率对蒸发速率有直接的影响，进而影响沉积速率，影响膜层的组织、性能，对反应沉积化合膜时蒸发源功率也将影响膜层的成分。
为了获得所需性能的膜层，应综合分析、考虑各种因素，迭择镀膜方法和确定合理的镀膜工艺参数。
磁控溅射真空镀膜机生产相关知识
跟镀膜行业有接触的工作人员，几乎人人都知道磁控溅射技术，它在现今市场应用非常广泛，各行各业镀膜层都大量投入使用，获得众多商家和客户的---。今天至成小编为大家详细介绍一下磁控溅射真空镀膜机生产方面的相关知识。磁控溅射真空镀膜机生产实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中---环境中不稳定因素影响，保障了、大面积有机光电器件和电路的制备。
控制系统特点：
1采用具有超温偏差保护、磁控溅射生产数字显示的微电脑p.i.d温度控制器，带有定时功能，控温---。
2超温保护、定时停机、来电恢复、温度修正等功能。
3具有断电恢复功能，在外电源突然失电又重新来电后，磁控溅射真空镀膜机可自动按原设定程序恢复运行。安全装置：a虑周全的安全保护设计，实现对人员、样品和设备的三重安全保护。b全功能：传感器故障报警、超温报警、独立式过升防止器、独立式超温保护器、过电流跳闸保护等。
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