磁控溅射镀膜机
各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也---扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，有机高分子镀膜设备制造商，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，有机高分子镀膜设备，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。
无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，有机高分子镀膜设备价格，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。
parylene是美国union carbide co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，有机高分子镀膜设备，由的真空气相沉积工艺制备，能涂敷到各种形状的表面，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。parylene可分为n型、c型、d型、f型、ht型等多种类型
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。
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