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感光防焊白油显影不尽怎么办
感光防焊白油一般需要的---能量都较高，石碣五金腐蚀---显影，平均---尺都要做到10格以上，而且有线路，表面并非元全平整，这些问题都考验着白油的制作品质，小编对这些异常，提出—些解决方案
分析1.
如果---时间加长、漏光和---过度，都会导致显影不尽。因此应该------机的抽真空程度，使底片与电路板贴合更紧密，同时应该选用---均匀度较好的---机，五金腐蚀---显影定做，亮度较高的---系统及---能量合理的防焊白油。这样可以---部分显影不尽问题。
---了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被---的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行---后烘烤， 通过---后烘烤，消除---时的驻波效应，---形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被---的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；五金腐蚀---显影
一种光刻工艺的显影方法，五金腐蚀---显影生产商，包括：提供半导体晶片，五金腐蚀---显影，在所述半导体晶片上具有光敏材料层；向所述光敏材料层喷洒显影液，使显影液布满整个光敏材料层表面；保持所述半导体晶片静止t时间或间歇性旋转所述半导体晶片，显影液与光敏材料层中的可溶解区域反应，使所述可溶解区域的光敏材料溶解；向所述光敏材料层喷洒去离子水，并旋转所述半导体晶片，使溶解有光敏材料的显影液和多余的显影液被甩出半导体晶片边缘之外；其中，在开始向所述光敏材料层喷洒去离子水时以及之后的60s内，所述半导体晶片的旋转速率小于或等于100rpm。本发明能够减少或消除半导体晶片表面的光刻胶残留的缺陷。五金腐蚀---显影
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