微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，数字光刻芯片厂商，主要-半导体产业发展的应用技术研究，-重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
目前中国光刻胶国产化水平-不足，重点技术差距在半导体光刻胶领域，有2-3代差距。
在光刻过程中可能会出现光刻胶未涂满衬底的异常，主要原因可能以下几个：滴胶量不、胶液偏离衬底中心、滴胶是有气泡、滴胶是有“倒角”，主要的叫绝方法有：增加滴胶量、调整匀胶机水平位置、调整滴胶位置、在“倒角”处滴胶、消除“倒角”。
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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要-半导体产业发展的应用技术研究，-重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，山东光刻芯片厂商，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
接近式光刻机，光刻版与光刻胶有一个很小的缝隙，因为光刻版与衬底没有接触，缺陷大大减少，紫外光刻芯片厂商，优点是避免晶圆片与光刻版直接接触，缺陷少，缺点是分辨率低，存在衍射效应。
在光刻图案化工艺中，首先将光刻胶涂在硅片上形成一层薄膜。接着在复杂的-装置中，光线通过一个具有特定图案的掩模投射到光刻胶上。-区域的光刻胶发生化学变化，在随后的化学显影过程中被去除。后掩模的图案就被转移到了光刻胶膜上。而在随后的蚀刻 或离子注入工艺中，会对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀，后洗去剩余光刻胶。这时光刻胶的图案就被转移到下层的薄膜上，这种薄膜图案化的过程经过多次迭代，联同其他多个物理过程，便产生集成电路。
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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，其前身是2010年10月在成立的广东半导体照明产业技术研究院。2015年6月经省-批准，由原广东省科学院、广东省工业技术研究院广州有色金属研究院、广东省测试分析研究所中国广州分析测试中心、广东省石油化工研究院等研究院所整合重组新广东省科学院，2016年4月成为独立法人单位广东省半导体产业技术研究院，2020年8月正式更名为广东省科学院半导体研究所。主要-半导体产业发展的应用技术研究，-重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。在第三代氮化物半导体领域具备贯穿全产业链的研发与中试支撑能力，在集成电路领域具备设计、封装、评测等多点支撑能力。拥有近5000平方米的研发基地，其中超净实验室超1000平方米，拥有mocvd等100多台/套关键设备，设备总价值过亿元。目前已建立材料外延、微纳加工、封装应用、分析测试四大科研平台，接触式光刻芯片厂商，硬件条件达到-水平，是国内第三代宽禁带半导体材料研究的重要基地，也是国内少数拥有完整半导体工艺链的研究平台之一，并且具备2-6英寸第三代半导体产业技术的中试能力。
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