pvd真空镀膜过程的均匀性
pvd真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
厚度上的均匀性，真空pvd镀膜公司，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100a)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，真空pvd镀膜加工，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
基体外表状况对镀层布局的影响
真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，长安真空pvd镀膜，主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时，真空pvd镀膜，基体资料外表首要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。
为什么真空镀膜可以做成不同的颜色，还有七彩色？
因为在真空蒸镀完之后还要喷一层uv光油面漆，这层面漆上可以做不同的颜色。蒸镀通过镀一些硅化物可以做成七彩色，但比较薄，近看可以，远看不明显，；溅射通过csi、co、si等物质进行反应镀可镀出七彩色，或者通过低温多层不同颜色的镀膜来呈现多彩。
而水电镀的一般为金属---，要呈现其他颜色的需要涂uv面漆然后uv照射。
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