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氧在热处理中的行为非常复杂。直拉单晶经300～500℃热处理会产生热施主，而经650℃以上热处理可除热施主，高纯硅粉厂家，同时产生氧沉淀成核中心，在更高温度下处理会产生氧沉淀，高纯硅粉报价，形成层错和位错等诱生缺陷，利用这些诱生缺陷能吸收硅中有害金属杂质和过饱和-缺陷的特性，发展成使器件由源区变成“洁净区”的吸除工艺，能提高器件的成品率。

半导体硅结构是一种重要的材料结构，它在现代电子技术中扮演着重要的角色。半导体硅结构的特殊性质使得它成为了制造电子器件的理想材料。半导体硅结构的特点是它的导电性介于导体和绝缘体之间。在半导体硅结构中，电子的能量带结构与导体和绝缘体有所不同。在导体中，电子的价带和导带重叠，因此电子可以自由地在导体中移动。