湖州掩膜版-苏州制版(商家)

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜也称作“掩模”，其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。

光刻技术能够 说每一构件全是技术含量-，步步重重困难。短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：在生产制造集成ic时，i先在圆晶硅芯片表层涂光感胶，掩膜版，再用光源穿透掩模板等于集成ic电路图纸的胶片照片直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。