在芯片制造领域,光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻,光刻机是芯片制造的魂,蚀刻机是芯片制造的魄,如果要想制造的芯片,这两个东西都必须。
而在光刻机方面,与的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争,但asml终究是背后霸主,-,不锈钢刀模蚀刻机机械设备,因为他们谁都离不开他的euv光刻机。而国产光刻机还在路上,目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片,这在全尚无先例,它也被称为上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源,实现了更高分辨力的光刻。
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等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中,一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中,在外部能量作用下如射频、微波等形成等离子体,干法刻蚀技术由于具有-的各向-和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域,凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与-,北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、封装、功率半导体等领域可提供-装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力,其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术,进入主流芯片代工厂,其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。
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