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真空镀膜机利用这种溅射方法在基体上沉积薄膜是1877年问世的。但是，利用这种方法沉积薄膜的初期存在着溅射速率低，成膜速度慢，并且必须在装置上设置高压和通入惰性气体等一系列问题。因此，发展缓慢险些被淘汰。只是在化学活性强的金属、难容金属、介质以及化合物等材料上得到了少量的应用。直到20世纪70年代，由于磁控溅射及时的出现，才使溅射镀膜得到了迅速的发展，开始走入了复兴的道路。这是因为磁控溅射法可以通过正交电磁场对电子的约束，增加了电子与气体分子的碰撞概率，这样不但降低了加在阴极上的电压，而且提高了正离子对靶阴极的溅射速率，减少了电子轰击基体的概率，从而降低了它的温度，即具备了;高速、低温的两大特点。到了80年代，虽然他的出现仅仅十几年间，自动磁控溅射镀膜机厂家，它就从实验室中---，真正地进入了工业大生产的领域。而且，随着科学技术的进一步发展，近几年来在溅射镀膜领域中推出了离子束增强溅射，采用宽束强流离子源结合磁场调制，并与常规的二极溅射相结合组成了一种新的溅射模式。而且，自动磁控溅射镀膜机，又将中频交流电源引入到磁控溅射的靶源中。这种被称为孪生靶溅射的中频交流磁控溅射技术，不但消除了阳极的;消失;效应。而且，也解决了阴极的问题，从而---地提高了磁控溅射的稳定性。为化合物薄膜制备的工业化大生产提供了坚实的基础。近年来急速镀膜的复兴与发展已经作为人们炙手可热的一种新兴的薄膜制备技术而活跃在真空镀膜的技术领域中。
磁控溅射镀膜仪设备发展至今，在工业方面显的---重要，其作用范围广泛，---的改变了传统的镀膜行业。使得镀膜作业在生产方面以及效率方面都得到了较大的提升。那么磁控溅射镀膜仪设备在工业中有什么优势呢？
磁控溅射镀膜仪设备主要有一下优势：
1、沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小；
2、对于大部分材料，只要能制成耙材，自动磁控溅射镀膜机供应商，就可以实现溅射；
3、溅射所获得的薄膜与基片结合较好；
4、溅射所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；
5、溅射工艺可重复性好，可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜；
6、能够准确控制镀层的厚度，同时可通过改变参数条件控制组成薄膜的颗粒大小；
7、不同的金属、合金、氧化物能够进行混合，同时溅射于基材上；
8、易于实现工业化。
随着科技的发展，磁控溅射镀膜仪设备在日常中个方面都有着---的贡献，不仅在节能方面有着重大的提升，更为重要的是其解放了劳动人民的双手，让劳动者---的从传统镀膜行业中解放。
1各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。2装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。3 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积cvd或金属有机4化学气相沉积mocvd生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。5 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜如增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。6在机械加工行业中，自动磁控溅射镀膜机工作原理，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
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