蒸发镀应用新型电极 引入装置，接触电阻小且---;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作 方便、。 (或双门蒸发、磁控两用机) 公司业务范围真空镀膜成套设备与技术，磁控溅射镀膜机，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空设备故障诊断与排除、老 产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽 气系统及全自动控制系统，抽速快、、操作简单、工作---;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理 想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。
关键工艺参数的优化
关键工艺参数的优化基于实验探索。实验是在自制的双室直流磁控溅射镀膜设备上进行的。该设备的镀膜室采用内腔尺寸为6700mm ×800mm ×2060mm的箱式形状，抽气系统采用两套k600 扩散泵机组，靶材采用德国leybold 公司生产的陶瓷靶，ito 薄膜基底是尺寸为1000mm ×500mm ×5mm 的普通浮法玻璃。
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说白了无心插柳就是说用荷能物体一般 用稀有气体的正离子去轰击固态下列称靶材表层，进而造成靶材表层上的分子或分子结构从在其中逸出的这种状况。这一状况是格洛夫grove于1842年在试验科学研究阴极浸蚀难题时，阴极原材料被转移到真空管内壁而发觉的。
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