铭板面板批发-延铭标牌厂家-江门铭板面板

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2020-10-29  
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因为上板面有溶液的堆积﹐减弱了蚀刻反应的进行, 但可以通过调整上 下喷嘴的喷淋压力来解决上下板面蚀刻不均的现象。 蚀刻工艺的一个普遍问题是在相同的时间里使全部板面都蚀刻干净是很难做 到的。 因基板的边缘位置比中心部位蚀刻得更快, 故很难做到同时使全部蚀刻都干 净。 而采用喷淋系统并使喷嘴摆动喷射是一个有效的解决措施。 要更进一步地改 善, 可以透过对板中心和边缘处不同的喷淋压力, 以及对板和板后端采用间歇 蚀刻的方法﹐达到整个板面的蚀刻均匀性。
化学蚀刻chemical etching-- 气态物质中性原子团与表面反应, 产物---易挥发,也称为等离子蚀刻。 等离子增强蚀刻(ion-enhanced etching)—单独使用中性原子团不能形成易挥发产物,具有一定 能量的离子改变衬底或产物;具有一定能量的离子改变衬底或产物层,这样,铭板面板生产厂家,化学反应以后 能生成挥发性物质,铭板面板批发,亦称为反应离子蚀刻rie 。 溅射蚀刻sputter etching--具有一定能量的离子机械的溅射衬底材料。 蚀刻速率etch rate--材料的剥离速率,通常以?/min,江门铭板面板,?/sec,铭板面板加工,nm/min, um/min 为单位计 量。 各向同性蚀刻 isotropic etch-- 蚀刻速率在所有方向都是相同的。
条宽损失 (etch bias) 过蚀刻 (over etch) – 在平均膜厚完全蚀刻掉以后的额外蚀刻。补偿蚀刻速率和膜厚的不均匀 性。 残留物 (residues) – 在蚀刻和平版印刷过程中无意留下的物质。 微掩膜micro-masking-- 由于微粒,薄膜掺杂以及残留物产生的无意留下的掩膜。 糊胶resist reticulation-- 温度超过 150 摄氏度时光刻胶产生的燃烧和折皱。 纵横比aspect ratio-- 器件结构横截面---和宽度的比率。
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