温室气体，其造成温室效应的作用是---的数千倍。氟代烃的低层---中比较稳定，而在上层---中可被能量的紫外线分解。四---碳的溶氧性---，因此被科学家用于超---潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，四---碳生产厂家，在275米到366米的---内，小白鼠仍可安全脱险。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，武汉四---碳，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时，四---碳具有单斜的结构，四---碳批发，晶格常数为a = 8.597，工业四---碳价格， b= 4.433， c = 8.381 (.10-1 nm)， β = 118.73° 。四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。
含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。四---1碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四---1碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。将其通过装有氢1氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟1化硅，随后通过硅胶和五氧1化二磷干燥塔得到终产品。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
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