洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，无尘净化室，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在-集成电路生产的光刻---工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，福州净化室，---是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
经济和科技发达的和地区都有自己的空气洁净标准和规范标准，都规定了有关的洁净度等级，例如美国、日本、西欧、北欧、俄罗斯等。我国于1984年颁布《洁净厂房设计规范》gbj73-84，1996年该规范进行了较大的修改，1990年颁布《洁净室施工及验收规范》jgj71-90以指导施工和验收的重要文件。该规范在重新修订中。gbj73-84规定的洁净度等级等级每立方米升空气中》0.5μm尘粒数每立方米升空气中》5μm尘粒数100《35*100〈3.5〉 1000《35*1000〈35〉《250〈0.25〉10000《35*10000〈350〉《2500〈2.5〉100000《35*100000〈3500〉《25000〈25〉
净化室施工有那些守则：
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