上海思俊机械设备有限公司为您提供催化剂高剪切胶体磨。一、产品名称:
催化剂高剪切胶体磨,催化剂胶体磨,催化剂高速胶体磨,德国胶体磨,14000转高速胶体磨是催化剂粉碎机
二、设备介绍:
催化剂研磨设备是 透过胶体磨定、转齿之间的间隙间隙可调时受到---的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的---。催化剂 催化剂在化工行业用于催化和加速化学反应。催化剂的造价通常比较高,用量比较少,由无机物衍生而成如重金属。催化剂用来为化学反应提供适合的场所,或者成为其中的一种反应物,以促进反应。在这两种情况下,催化剂的活性都是由催化剂与反应物质的接触状况有效分散决定的,不断扩充催化剂表面积防止结块,缩小粒径等可增强催化剂活性。实践证明,sgn工业设备可以---催化剂活性得到zui大程度的发挥。增加收益。sgn分散头的特殊设计---完全分散,使催化剂与反应物完全接触。---一提的是,定转子的高剪切作用详见技术信息---消除结块,恢复原有接触面,获得反应收益率。
三、工艺介绍:
1.缩短工艺时间。由sgn工业设备在高速率下产生的高剪切作用,---催化剂和反应物迅速的分散为一相,并加速反应。sgn工业设备输入的高能量也能帮助加速反应转化率。
催化剂高速胶体磨的粉碎---
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
2 胶体磨磨头头的剪切速率 越大,---越好
3 胶体磨头的齿形结构分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿---越好
4 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间可以看作同等的电机,流量越小,---越好
5 循环次数越多,---越好,到设备的期限,就不能再好
6线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
sgn 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
四、催化剂高速胶体磨参数表:
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kw
gmd 2000/4
300
9,000
23
2.2
dn25/dn15
gmd 2000/5
3000
6,000
23
7.5
dn40/dn32
gmd 2000/10
8000
4,200
23
22
dn80/dn65
gmd 2000/20
20000
2,850
23
37
dn80/dn65
gmd 2000/30
40000
1,420
23
55
dn150/dn125
gmd2000/50
120000
1,100
23
110
dn200/dn150
*流量取决于设置的间隙和---物料的特性,同时流量可以被调节到zui大量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
催化剂高速胶体磨 sgn 胶体磨 14000转胶体磨
五、sgn管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较:
1.转速和剪切力:
---胶体磨,3000/4700 rpm直联电机的转速决定转子转速
线速度:v=3.14x0.55x3000/60=9 m/sv=3.14x0.55x4700/60=14m/s
作用力:f=9/0.3x1000-=30000 s-1f=14/0.3x1000=42000 s-1
sgn高剪切胶体磨,9000/14000rpm通过皮带加速
线速度:v= 3.14x0.055x90000/60=26 m/sv=3.14x0.055x14000/60=44 m/s
作用力:f=23/0.2x1000=115000s-1f=40/0.2/x1000=200000s-1
这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是前者的4-5倍
2.设备设计构造:
---胶体磨,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要-人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
sgn高剪切胶体磨,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
3.密封:
---胶体磨,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
sgn胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时---运转,特殊德国pdfe轴封,可以运行10000小时,可选择德国---机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
4.产品---:
---胶体磨,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
sgn高剪切胶体磨,可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米级分散乳化粉碎
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