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1、清镇jx1149多功能等离子处理系统optiglow acejx1156-
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型号:jx1149 | 型号:jx1156多功能等离子处理系统optiglow ace |
3、清镇jx1149多功能等离子处理系统optiglow acejx1156-内容
型号:jx1149
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应用领域:
生物芯片领域
材料、光学材料研究
电子半导体领域
高分子材料研究
电化学、---零部件处理
有机材料的灰化、刻蚀
仪器性能:
自动调频高频发生器
内置旋转真空泵
此系统通常使用氧及氩的混合气体,氧去除有机物质碳氢化合物,氩对样品表面进行刻蚀
低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts rf)
真空监测.
双重气流针阀控制
---时间定时
微处理器程序设置
lcd状态数字显示
腔室为圆柱形,样品装载为抽屉式抽拉系统,样本操作方便
聚碳酸脂安全防护
栏目页面:表面处理仪
来源网址:型号:jx1156多功能等离子处理系统optiglow ace
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全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年,随着研发提升及软硬件更新,现在的系统不但拥有使用的高稳定性和---率外,其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。
射频等离子体是广泛使用和通用性好的等离子体技术,它应用于-和半导体的宽广领域内。在通用工业/-行业,需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中,除了射频等离子体的-的化学作用外,其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除化学惰性的表面沉淀物如金属氧化物和其它无机物沉淀以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。
optiglow ace 是-设计用于等离子体处理包括灰化,清洗,表面活化,改性和刻蚀,具有功能性多、易操作性强、无需调试、-性高、低成本的优点,广泛应用在半导体制造,微电子微纳加工,生命科学器件制造和前处理等。ace适合多种工艺气体,如ar、o2、空气及化合物气体如cf4,通过2个气体流量控制气体 准和提高系统控制性能。除了结构紧凑和集成度高外,-的射频rf激发等离子体(13.56mhz,10-150w)配合-的工艺控制、失效保护 系统和数据采集软件使其很容易安装在实验室或环境中。
optiglow 75 (100khz,75w)是理想的用于等离子表面改性,表面活化胺化团,光刻胶剥离和清洗,在涂层镀膜, 沉积绘图和覆膜前增加基底键合强度,粘性和湿性。
栏目页面:表面处理仪来源网址:多功能等离子处理系统optiglow ace
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