微波等离子去胶机PLASMA

武汉迈可诺科技有限公司为您提供微波等离子去胶机plasma。plasma-preen等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。
产品特色
负载循环控制，模拟功率控制
处理机存储
水冷底座
减少污水排放
安全保护设计
操作简便 维护方便
应用范围：
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件，提高其---性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体元器件
光刻胶去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
适用工艺：
打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 pd-ag 裸芯片垫；
去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；
塑胶密封剂去除--失效模式分析
型号
ppc862
ppc973
反应舱尺寸(h*w*d)
203mm x 152 mm x 50mm
229 x 178 x 76 mm
冷却面(h*w)
203 mm x 152 mm
229 mm x 178 mm
反应舱
方形舱体
方形舱体
反应舱材质
派热克斯玻璃&铝材
派热克斯玻璃&铝材
水冷式
水冷装置
水冷装置
负载比
10%至连续性
10%至连续性
标准流量
5cu-ft./hr.@stp
5cu-ft./hr.@stp
频率(ghz)
2.45 ghz
2.45 ghz
功率(watts)
100至750之间调节
100至750之间调节
重量 (kg)
29.5kg
38.5kg
真空泵系统
抽气速率3.8cfm/分
抽气速率3.8cfm/分
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