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自动on-line(轴轮式)式ap等离子处理系统crf-apo-500w-w
型号(model)
crf-apo-500w-w
电源(power supply)
220v/ac,50/60hz
功率(power)
2set*1000w/25khz(option)
处理宽幅(processing width)
50mm-500mm(option)
有效处理高度(processing ht=)
5-15mm
处理速度(processing speed)
0-5m/min
传动方式(drive mode)
防静电绝缘滚轮
喷头数量(number)
2(option)
工作气体(gas)
compressed air(0.4mpa)
产品特点:配置运动控制平台,plc+触摸屏控制方式,采用---运动模组,操作简便;
可选配喷头数量,满足客户多元化需求;
配置集尘系统,---产品品质和设备的整洁、干净;
应用范围:主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
电容式触摸屏等离子表面处理机供应
低压等离子体清洗机是一种典型的等离子体清洗设备。因等离子体的生产需在低压条件下进行,需有真空设备及封闭系统,设备成本高,操作空间及待清理物品大小易受---,不利于-工业生产。所以近几年常压等离子体及其清洗技术的发展---。常压射流等离子体喷枪,是一种电容耦合射频放电装置,它的等离子特性类似于辉光放电,在清洗物料表面时,可根据被清洗污染物的特征选择工作气体。
另外还有一种常压空气介质阻挡放电等离子清洗装置,可在常压条件下对连续纤维、织物和其它大片织物进行表面清洗。介质阻挡放电(dbd)能产生宏观均匀、稳定的等离子体,且放电强度较高,处理效率较高。
常压等离子清洗机清洗工艺过程中,设备参数影响清洗效率的主要因素有以下几个方面:
(1)放电气压:低压等离子体时,放电气压增大,等离子体密度增大,电子温度降低;等离子体的清洗---取决于等离子体的密度和电子温度,等离子体密度越大,清洗速度越快,电子温度越高,清洗---越好。低压等离子体清洗过程中,放电压力的选择是关键。
(2)气体类型:待处理物品的基底及其表面的污染物是多种多样的,而不同气体放电产生的等离子体清洗速度和清洗---却大相径庭。所以要有针对性地选择工作气体等离子体,如可选用氧气等离子体清除物体表面的油污,选用氢氩等混合气体等清除氧化层。
(3)放电功率:放电功率越大,等离子体的密度越大,活性粒子的能量越大,清洗---越好。比如,放电功率对氧等离子体密度有很大的影响。
(4)接触时间:待清洗材料在等离子体中的接触时间对等离子体的清洗---和等离子体的工作效率有重要影响。较长的接触时间,清洗---较好,但工作效率降低。而且,清洗时间过长也会对材料表面造成损害。
(5)传输速度:对于常压等离子体清洗工艺,在处理大型物体时会涉及到连续传输问题。结果表明,被清洁物体和电极的相对移动速度越慢,处理---越好,但速度过慢一方面影响了工作效率,另一方面也会造成材料表面的损伤,处理时间过长。
(6)其他:常压等离子清洗机清洗过程中气体分布、气体流量、电极设置等参数也会对清洗---产生影响。所以要根据实际情况和清洗要求来设定具体的工艺参数。
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