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真空式等离子处理系统crf-vpo-8l-s
名称name
真空式等离子处理系统
型号model
crf-vpo-8l-s
控制系统control system
plc+触摸屏
电源power supply
380v/ac,50/60hz,3kw
中频电源功率mf power
600w/13.56mhz
容量volume
80loption
层数electrode of plies
8option
有效处理面积area
400l*300woption
气体通道gas
两路工作气体可选: ar、n2、cf4、o2
产品特点:---处理空间,提升处理产能,采用plc+触摸屏控制系统,有效控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。
保养维修成本低,便于客户成本控制。
---,快响应,---的操控性和兼容性,完善的功能和---技术支持。
应用范围:主要适用于生物---行业,印制线路板行业,半导体ic领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。
为了---铜丝框架即铜丝支架在打线和封塑时---,提高良率,通常采用等离子清洗机对铜丝支架进行等离子清洗,其等离子清洗---受多种因素影响,以往人们关注的焦点主要集中在铜丝支架本身,以及选择的等离子清洗设备和参数。但是实际上料箱本身的几个因素也会对等离子处理的---产生不小的影响。
1、规格尺寸:
铜导线框架在不同尺寸下所对应使用的料盒尺寸也不相同,而料盒尺寸与等离子清洗处理的---有一定的关系,一般情况下,料盒尺寸越大,等离子进入料盒内的时间越长,等离子清洗处理的均匀性和---就越好。
2、间距大小:
隔距主要是指各层铜引线框架间的隔距,隔距越小,等离子清洗铜引线框架的---和均匀性就越差。
3、槽孔特征:
把铜丝骨架放入料盒内进行等离子清洗处理,假如四面没有开槽,就会形成遮挡,等离子体难以进入,影响处理---,同时需要的是屏蔽作用,开槽的位置,槽孔大小。
另外,料盒的盖子是否要盖,以及盖的时间,这些都会影响表面等离子处理清洗---。
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