电子工程用高纯-市场供需分析及投资战略咨询报告2018-2024年

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 < 报告编号>;* 365179
 < 出版日期>;*  2018年10月
 < 出版机构>;*  产业经济研究院
  * 2697021579
 < 咨询热线>;* 010-56036118 15092672381<兼并微信>;<专员>;* 李军
 
 
 
  《报告目录》
 
 
 
 

  ---章 半导体、光伏产业用高纯---概述 16
  1.1 高纯---简介 16
  1.2 高纯---的主要基本性能与指标 17
  1.3 高纯---的主要应用领域 18
  1.4 高纯---在发展我国电子工业中的重要作用 19

  第二章 电子特种气体及其应用市场 20
  2.1 电子特种气体概述 20
  2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面 21
  2.3 电子特种气体的纯净度要求 23
  2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题 25
  2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题 25
  2.4.2 气体配送及供应问题 26
  2.4.3 储存、使用中的安全性问题 27
  2.4.4 成本性问题 28
  2.5 ---电子特种气体行业发展概述 29
  2.5.1 ---电子特种气体生产与市场情况 29
  2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展 30

  第三章 高纯---气体性能指标及制备、净化的工艺路线 33
  3.1 高纯---的性能指标 33
  3.2 高纯---工业化制备的典型工艺路线 34
  3.2.1 制备工艺法概述 34
  3.2.2 ---合金法制备--- 34
  3.2.2.1 工艺过程 34
  3.2.2.2 主要反应 36
  3.2.2.3 工艺特点 36
  3.2.2.4 工艺法存在的问题 37
  3.2.3 ---氢硅还原法制备--- 37
  3.2.3.1 工艺过程 37
  3.2.3.2 主要反应 39
  3.2.3.3 工艺特点 39
  3.2.3.4 工艺法存在的问题 40
  3.2.4 四---硅还原法制备--- 41
  3.2.4.1 工艺过程 41
  3.2.4.2 主要反应 41
  3.2.4.3 工艺特点 41
  3.2.4.4 工艺法存在的问题 42
  3.2.5 氯---歧化法制备--- 42
  3.2.5.1 工艺过程 42
  3.2.5.2 主要反应 42
  3.2.5.3 工艺特点 42
  3.2.5.4 工艺法存在的问题 43
  3.2.6 烷------歧化法 43
  3.2.6.1 工艺过程 43
  3.2.6.2 主要反应 44
  3.2.6.3 工艺特点 44
  3.2.6.4 工艺法存在的问题 44
  3.3 高纯---气体的净化工艺路线 45
  3.3.1 气体的净化方法概述 45
  3.3.2 高纯---的净化过程 45
  3.4 工业高纯---气体的包装及贮运 46

  第四章 ---高纯---生产与主要企业现况 47
  4.1 高纯---产销、市场规模的概况 47
  4.2 国外高纯---主要生产企业产销情况 47
  4.3 国外高纯---主要生产企业简况 48
  4.3.1 rec silicon公司 48
  4.3.2 dowcorning公司 51
  4.3.3 sodiff新素材有限公司 54
  4.3.4 memc公司 57
  4.3.5 air liquid公司 60
  4.3.6 日本电气工业公司 64
  4.3.7 大阳日酸公司 67
  4.3.8 evonik industries公司 70
  4.4 国内---业的发展概述 72
  4.4.1 我国高纯---业发展的概述 72
  4.4.2 我国---研发、生产的历史 74
  4.5 国内高纯---生产企业现况 75
  4.5.1 国内高纯---生产企业总述 75
  4.5.2 浙江中宁硅业有限公司 75
  4.5.3 浙江赛林硅业有限公司 81
  4.5.4 滁州市硅谷特种气体有限公司 88
  4.5.5 六九硅业有限公司 95
  4.5.6 浙江金华美晶硅电子有限公司 102
  4.5.7 黑龙江金业电子气体股份有限公司 108
  4.5.8 深圳市金业长健新材料股份有限公司 115

  第五章 高纯---主要应用领域的概述 122
  5.1 高纯---在集成电路中的应用 122
  5.1.1 集成电路芯片制程 122
  5.1.2 化学气相沉积和气体应用 122
  5.1.3 高纯---在化学气相沉积中作为气源形成的薄膜 131
  5.2 高纯---在薄膜硅太阳电池中的应用 132
  5.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池 132
  5.2.2 si薄膜的材料特性 132
  5.2.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯---其应用 136
  5.3 高纯---在液晶显示器中的应用 138
  5.3 高纯---在液晶显示器中的应用 139
  5.4 高纯---在其它领域的应用 139
  5.4.1 在特种玻璃制造中的应用 139
  5.4.2 在电子部件制造中的应用 140
  5.4.3 在化合物半导体材料制造中的应用 140
  5.5 高纯---在电子信息产品中应用市场需求量的- 141

  第六章 高纯---主要应用市场之一—集成电路产业的现况与趋势 143
  6.1 半导体硅片生产与市场发展 143
  6.1.1 半导体生产的现况 143
  6.1.2 半导体硅片的生产状况 145
  6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展 145
  6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状 145
  6.2.2 我国集成电路晶圆制造业情况 153

  第七章 高纯---主要应用市场之二 —薄膜太阳能电池产业的现况与趋势 154
  7.1 ---光伏产业的发展 154
  7.1.1 光伏产业的快速发展 154
  7.1.2 我国光伏产业发展环境与现况 155
  7.2 薄膜太阳能电池的生产与市场 163
  7.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种 163
  7.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景 171
  7.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化 174
  7.3 ---薄膜太阳能电池的主要生产企业 175

  第八章 高纯---主要应用市场之三 —液晶显示器产业的现况与趋势 180
  8.1 平板显示器产业发展现况 180
  8.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测 181
  8.2.1 我国液晶显示产业发展概述 181
  8.2.2 我国lcd面板生产现况与未来几年发展预测 183
  8.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析 185

  图表目录：
  图表 1 ---性能比较 18
  图表 2 气体按其特性分类图 21
  图表 3 杂质对硅低温选择性外延沉积的影响 24
  图表 4 ---与集成度的关系 25
  图表 5 微粒直径与集成度的关系 25
  图表 6 特殊气体供应流程图 27
  图表 7 ---的性能指标 33
  图表 8 氢化锂还原---氢硅制备---工艺流程图 38
  图表 9 2016-2018年9月高纯---产销分析 47
  图表 10 2016-2018年9月高纯---市场规模分析 47
  图表 11 2016年国外高纯---主要生产企业产销情况 47
  图表 12 近4年rec silicon公司 流动资产周转次数变化情况 48
  图表 13 近4年rec silicon公司 总资产周转次数变化情况 49
  图表 14 近4年rec silicon公司 销售毛利率变化情况 49
  图表 15 近4年rec silicon公司 资产负债率变化情况 49
  图表 16 近4年rec silicon公司 产权比率变化情况 50
  图表 17 近4年rec silicon公司 固定资产周转次数情况 50
  图表 18 近4年dowcorning公司流动资产周转次数变化情况 52
  图表 19 近4年dowcorning公司总资产周转次数变化情况 52
  图表 20 近4年dowcorning公司销售毛利率变化情况 52
  图表 21 近4年dowcorning公司资产负债率变化情况 53
  图表 22 近4年dowcorning公司产权比率变化情况 53
  图表 23 近4年dowcorning公司固定资产周转次数情况 54
  图表 24 近4年sodiff新素材有限公司流动资产周转次数变化情况 55
  图表 25 近4年sodiff新素材有限公司总资产周转次数变化情况 55
  图表 26 近4年sodiff新素材有限公司销售毛利率变化情况 55
  图表 27 近4年sodiff新素材有限公司资产负债率变化情况 56
  图表 28 近4年sodiff新素材有限公司产权比率变化情况 56
  图表 29 近4年sodiff新素材有限公司固定资产周转次数情况 57
  图表 30 近4年memc公司流动资产周转次数变化情况 58


 
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