深圳PLD300A型激光镀膜设备报价的行业须知

pld 主要选件

离子辅助沉积 (ibad)

-的离子辅助沉积系统

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。

想要了解更多脉冲激光沉积的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！

脉冲激光沉积系统的配置介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;

3.基板加热电源，高到1200度;

4.真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分rheed;

11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种真空位移台，磁力传输杆，真空法兰，真空密封垫圈，真空用波纹管等;

脉冲激光沉积的基本系统由哪些组成？

腔室及真空泵

快速门，分子泵，全量程规

沉积源

靶台，6x1(25mm) 靶，可以水平旋转，

可z方向移动

样品台

可加热至800oc1000oc可选，可水平旋转，可z方向移动

在线工艺监控

石英晶振沉积速率监控仪

想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！

联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！

推荐关键词：多靶磁控溅射仪,单靶磁控溅射仪,磁控镀膜机
本页网址：https://www.ynshangji.com/xw/16500607.html

声明提示：

本页信息（文字、图片等资源）由用户自行发布,若侵犯您的权益请及时联系我们，我们将迅速对信息进行核实处理。