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真空镀膜机厚度均匀性，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类

1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3. 蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小。

镀膜机开总电源，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延

1. 开水泵、气源。

2. 开总电源。

3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置v1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。

4. 开机械泵、预抽，开涡轮分子泵电源、并启动，真空计开关换到v2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。

5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关预抽，开前级泵和高真空阀继续抽真空，抽真空到达程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能打开电子枪电源。

镀膜技术在传感器方面的应用 在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，-敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、格制作、因此采用薄膜的情况很多。

镀膜技术在集成电路制造中的应用 晶体管路中的保护层sio2、si3n4、电极管线多晶硅、铝、铜及其合金等多是采用cvd技术、pvcd技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的-之一。

进口不导电ncvm镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜ncvm。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,-镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度,拥有-的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。

ncvm是采用镀出金属及尽缘化合物等薄膜，利用相互不连续之特性， 得到外观有金属-且不影响到无线通讯传输之效果。首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用

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