钢套离子氮化炉电话

湖北丰热科技有限公司原武汉离子热处理研究所，制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。

?选用正弦波中频靶电源，由于波形的原因，靶面产生打弧的几率---并优于双极性矩形波中频靶电源。更适合于对薄膜表面和膜层要求较高的溅射工艺。??一般来说，射频辉光放电与直流及中频交流脉冲辉光放电相比，可以在低一个数量级的气体压强状态下进行(例如，1.0×1-2pa)。这是辉光放电的---特征，而且在正常辉光放电时，两极间电压不随电流变化。??

在运行的射频辉光放电等离子体中，由于离子和电子迁移率的不同将导致阴极负偏压的形成，在阴极表面建立一个直流负偏压是进行射频溅射工艺的---条件。两个面积相等的电极置于射频辉光放电等离子体中，不可能建立阴极靶表面的负偏压，不可能产生溅射。

将两个面积不相等的电极置于射频(例如13.56mhz)辉光放电离子体中形成非对称放电，面积小的那个电容耦合阴极有可能形成并建立阴极靶表面的负偏压，并能产生溅射。?电容耦合型射频(rf)放电电极自给偏压的形成，可以防止绝缘层表面正电荷的积累，有助于射频放电的维持。易于实现局部氮化，只要设法使不欲氮化的部分不产生辉光即可1，非渗氮部位便于保护，采用机械屏蔽、用铁板隔断辉光，即可保护。阴极靶表面的“自生负偏压”的数值可以近似等于射频溅射电压的幅值，1高时可达千伏量级。

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