根据电解质的种类可分为氯化物熔盐体系和---物-氧化物熔盐体系电解法，多用于制取以---为主的混合稀土金属以及---、镨、---等单一稀土金属。超纯金属的制备有化学提纯法如精馏-是金属氯化物的精馏及氢还原、升华、溶剂萃取等和物理提纯法如区熔提纯等见硅、锗、铝、铟。熔盐电解法为连续性生产过程，产量较大，设备简单，成本较低，但电解槽需用耐高温氯化物或---物腐蚀的结构材料制造。
还原制得含稀土99%的稀土金属经真空精炼(包括真空蒸馏或升华)、电传输、区域熔炼、熔盐电解精炼等方法处理除去非稀土杂质后，可获得纯度超过99.9%的稀土金属产品。
金属靶材材质分为：
镍靶、ni、钛靶、ti、锌靶、zn、铬靶、cr、镁靶、mg、铌靶、nb、锡靶、sn、铝靶、al、铟靶、in、铁靶、fe、---铝靶、zral、钛铝靶、tial、---靶、zr、铝硅靶、alsi、硅靶、si、铜靶cu、钽靶t、a、锗靶、ge、银靶、ag、钴靶、co、金靶、au、钆靶、gd、---靶、la、钇靶、y、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、nicr、铪靶、hf、钼靶、mo、铁镍靶、feni、钨靶、w等。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
陶瓷靶材
ito靶、氧-靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、---锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化---靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化---靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化---靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、---镁靶、---钇靶、-靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸---靶、氧化镍靶、溅射靶材等。压接：采用压条，一般为了提高接触的-性，会增加石墨纸、pb或in皮。
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