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真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。
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抛丸是靠叶轮高速旋转,将在叶轮中心的磨料,经过调流块(regulator)及叶轮推动器(impeller)预加速,送入叶片区再将磨料高速抛出,速度可超过100m/s,由于抛丸覆盖范围较大,所以不需利用气压,能源效益远高于喷枪。叶轮是抛丸机的-,由电动马达直接或间接驱动,每家叶轮生产商均有-的设计,主要分为单碟和双碟叶轮。
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