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大沥双头车灯杯生产厂家信息「多图」

发布者:佛山市锦城镀膜有限公司  时间:2020-4-2 





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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这---镀膜时反应气体的纯度,从而---膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3。

弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。

本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会---影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会破坏膜层的结合力和膜层颜色的纯度。

pld缺点:1、在镀膜过程中,薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低,采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面pld生长部比较困难,因此进一步提高薄膜的会比较困难.




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