汕头MBE分子束外延报价服务放心-,沈阳鹏程有限公司

mbe分子束外延系统由哪些部分组成？

设备组成：

沉积室 1套

该室主要是分子束外延沉积：---真空度： 2x10-8pa；真空室检漏漏率：小于5x10-8 pa.l/s；短时间暴露---并充干燥氮气抽至：1.0x10-5pa,小于40分钟；

进样室 1套

---真空： 6.6×10－5pa；真空检漏漏率：10－7pa.l/s短时间暴露---并充干燥氮气抽至：5.0x10-4pa,小于40分钟

样品库 1套

一次可以放进四块样品，样品为玻璃，尺寸为50×50×3mm。

探头规夹持、移动驱动机构 1套

移动距离120mm，焊接波纹管实现动密封，手动操作。

束流测量组件: 1套

用以测量各个束源的束流值。其工作模式为：需要测量束源炉束流时，将探头移到样品的正下方，完成测量后，探头后退，让出蒸发通道。计算机控制系统 　镀膜过程采用计算机控制，由计算机、软件、硬件接口液晶显示器等组成。

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mbe分子束外延的应用领域

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享mbe产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

分子束外延可能的应用领域由：在高温超导薄膜和器件的研究和应用方面将由于l-mbe能够人工控制原子层的有秩序堆积，可以外延生长发挥重要作用，出含有几个原子层组成绝缘层(i)的ybco/i/ybco夹心结构，具备研制三层夹心型超导隧道结的条件； 外延生长含有低熔点、易挥发的多元化合物半导体薄膜，在准确调整化合物成分比以便调节隙宽度方---有优势；人工合成具有特殊层状晶体结构的新型材料，探索新型高温超导体或具有特殊性质的新材料；激光分子束外延在研究和发展多元金属间化合物、亚稳态材料方面也可能有应用的前景。

mbe分子束外延设备的优势

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——mbe分子束外延设备供应商，我们为您带来以下信息。

分子束外延(mbe)是上个世纪90年---展起来的一种新型高精密制膜技术，它集pld的制膜特点和传统mbe的真空准确控制原子尺度外延生长的原位实时监控为一体，除保持了pld方法制备的膜系宽，还可以生长通常的半导体超晶格材料，---适合生长多元素、高熔点、复杂层状结构的薄膜，如超导体、光学晶体、铁电体、压电体、铁磁体以及有机高分子等，同时还能进行其相应的激光与物质相互作用和成膜过程的物理、化学等方面的基础研究。

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