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紫外光刻胶价格源头货 北京赛米莱德有限公司

发布者: 北京赛米莱德贸易有限公司  时间:2020-5-9 





光刻胶分类情况是怎样

1、光聚合型。2、光分解型,采用含有---醌类化合物的材料,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可以制成正性胶。

3、光交联型,采用-月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品kpr胶即属此类。

上述内容主要所描述的就是小编对于光刻胶是什么材料?光刻胶分类情况是怎样的具体介绍,不同情况下面,大家使用的一些材料上存在着很大的差距,所以在这以前,有些方面情况上到底是怎样,这些是都得根据细节状况来的,对于物品调查办理前,一定也是不可以盲目做下定论,否则也容易为自己以后操作出现影响。

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   光刻胶的主要技术参数

1.灵敏度sensitivity

灵敏度是衡量光刻胶-速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的-剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mj/cm2。

2.分辨率resolution

区别硅片表---邻图形特征的能力。一般用关键尺寸cd,critical dimension来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。

光刻胶的分辨率是一个综合指标,影响该指标的因素通常有如下3个方面:

(1) -系统的分辨率。

(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。

(3) 前烘、-、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。  

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光刻胶的作用有什么?

光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上,为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中,需在硅片上涂一层光刻胶,经紫外线-后,光刻胶的化学性质发生变化,在通过显---,被-的光刻胶将被去除,从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程,实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中,光刻胶起防腐蚀的保护作用。




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